[반도체 8대공정 집중 과정] - 식각 공정
사업주
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학습시간: 11시간 (총10강)
수강료: 32,670원
- NCS 분류:
- 반도체개발(19030601) 강의 더보기
- 강좌구성:
- 11시간 (10강)
- 수강기간:
- 30일
- 수료기준:
- 진도율 80%이상, 시험 2 회, 과제 0회
학습기간
※ 학습기간 종료 후 무료 복습기간 6개월 제공 (학습기간 내 수료 시 수료증 발급)
학습기간
※ 학습기간 31일 + 무료 추가학습기간 1년 제공
학습기간
※ 학습기간 31일 + 무료 추가학습기간 1년 제공
수료시 환급금액: 중소기업 29,400원 /
대기업 26,130원
수강료 |
32,670원
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총 결제금액 |
32,670원
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수강료 |
32,670원
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지원금 |
0원
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총 결제금액 |
32,670원
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수강료 |
32,670원
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지원금 |
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총 결제금액 |
3,270원
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과정소개
1. 식각 공정의 개요에 대하여 설명할 수 있다.
2. 습식 식각 공정에 대하여 설명할 수 있다.
3. 건식 식각 공정에 대하여 설명할 수 있다.
4. 최신 식각 공정에 대하여 설명할 수 있다.
5. 1~4번의 이해과정 등을 통해 식각 공정 실무에 대한 업무프로세스와 문제 시 해결방안을 제시할 수 있다.
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학습대상
1. 반도체, 식각 공정 관련 직무 종사자
2. 반도체 분야, 식각 공정에 관심이 있는 자
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학습목표
1. 식각 공정의 개요에 대하여 설명할 수 있다.
2. 습식 식각 공정에 대하여 설명할 수 있다.
3. 건식 식각 공정에 대하여 설명할 수 있다.
4. 최신 식각 공정에 대하여 설명할 수 있다.
5. 1~4번의 이해과정 등을 통해 식각 공정 실무에 대한 업무프로세스와 문제 시 해결방안을 제시할 수 있다.
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교수소개
서재범
前 SK하이닉스 수석연구원 15년 이상 경력
前 SK하이닉스 전공면접관 출신
前 SK하이닉스 사내대학 강의 경력 有
前 L반도체, S반도체 총 14년 이상 경력
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학습내용
차시 |
내용 |
1차시 |
식각 공정 개요 |
2차시 |
습식 식각 공정 |
3차시 |
건식 식각 공정 기초(1) - 진공기술 |
4차시 |
건식 식각 공정 기초(2) - 플라즈마 기술 |
5차시 |
건식 식각 공정의 원리와 특성 |
6차시 |
건식 식각 공정 주요 식각 설비 |
7차시 |
건식 식각 공정 인자 영향 |
8차시 |
주요 소재별 건식 식각 특성 |
9차시 |
최신 식각 공정 |
10차시 |
식각 공정 실무 |
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평가기준
평가항목 |
진도율 |
시험 |
과제 |
진행단계평가 |
수료기준 |
평가비율 |
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80% |
0% |
20% |
- |
수료조건 |
80% 이상
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0점 이상 |
0점 이상 |
0점 이상
|
60점 이상
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