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[반도체 8대공정 집중 과정] - 박막 증착 공정

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학습시간: 10시간 (총9강) 수강료: 29,700원
NCS 분류:
반도체개발(19030601) 강의 더보기
강좌구성:
10시간 (9강)
수강기간:
30일
수료기준:
진도율 80%이상, 시험 2 회

신청유형

학습기간

수강료 29,700
총 결제금액 29,700
  • 과정소개

    1. 박막 증착 공정의 개요에 대하여 설명할 수 있다.

    2. 진공 기술 기초에 대하여 설명할 수 있다.

    3. 플라즈마 기술 기초에 대하여 설명할 수 있다.

    4. 물리적 기상 증착 (PVD)에 대하여 설명할 수 있다.

    5. 화학적 기상 증착 (CVD)에 대하여 설명할 수 있다.

    6. 원자층 증착 (ALD)에 대하여 설명할 수 있다.

    7. 1~6번의 이해과정 등을 통해 박막 증착 공정 실무에 대한 업무프로세스와 문제 시 해결방안을 제시할 수 있다.​ ​

  • 학습대상

    1. 반도체 개발, 박막 증착 공정 관련 직무 종사자

    2. 반도체 분야, 박막 증착 공정에 관심이 있는 자​ 

  • 학습목표

    1. 박막 증착 공정의 개요에 대하여 설명할 수 있다.

    2. 진공 기술 기초에 대하여 설명할 수 있다.

    3. 플라즈마 기술 기초에 대하여 설명할 수 있다.

    4. 물리적 기상 증착 (PVD)에 대하여 설명할 수 있다.

    5. 화학적 기상 증착 (CVD)에 대하여 설명할 수 있다.

    6. 원자층 증착 (ALD)에 대하여 설명할 수 있다.

    7. 1~6번의 이해과정 등을 통해 박막 증착 공정 실무에 대한 업무프로세스와 문제 시 해결방안을 제시할 수 있다.​ 

  • 교수소개

    서재범

     

    前 SK하이닉스 수석연구원 15년 이상 경력

    前 SK하이닉스 전공면접관 출신

    前 SK하이닉스 사내대학 강의 경력 有

    前 L반도체, S반도체 총 14년 이상 경력​ ​

  • 학습내용
    차시 내용
    1차시 박막 증착 공정 개요
    2차시 진공 기술 기초
    3차시 플라즈마 기술 기초
    4차시 물리적 기상 증착 (PVD)
    5차시 화학적 기상 증착 (CVD) (1)
    6차시 화학적 기상 증착 (CVD) (2)
    7차시 원자층 증착 (ALD) (1)
    8차시 원자층 증착 (ALD) (2)
    9차시 박막 공정 실무
  • 평가기준
    평가항목 진도율 시험 과제 진행단계평가 수료기준
    평가비율 - 80% 0% 20% -
    수료조건 80% 이상 0점 이상 0점 이상 0점 이상 60점 이상
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